工業(yè)用反滲透設(shè)備所使用的工藝:

根據(jù)客戶的實(shí)際用水需求對定制設(shè)備配備不同的工藝，各個(gè)行業(yè)對于用水的標(biāo)準(zhǔn)不同，所以一般所應(yīng)用工藝18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm等標(biāo)準(zhǔn)，電導(dǎo)率從20uS/cm-0.1uS/cm不等。并且還配備不同的預(yù)處理系統(tǒng)以及反滲透核心也會(huì)分為單級(jí)反滲透工藝和雙級(jí)反滲透工藝，而后處理系統(tǒng)我們公司準(zhǔn)備了臭氧發(fā)生器、紫外線殺菌、二氧化氯等技術(shù)設(shè)備。反滲透設(shè)備污水處理設(shè)備

工業(yè)用反滲透設(shè)備應(yīng)用范圍：

光電行業(yè)：

半導(dǎo)體材料、電路板、吵到材料、PDP離子顯示屏、實(shí)驗(yàn)室、中試車間以及其他光電高科技精微產(chǎn)品。

精密機(jī)械行業(yè)：

飛機(jī)、高鐵、打印機(jī)、傳真機(jī)激光頭生產(chǎn)加工、硬盤讀寫、盤片以及對產(chǎn)品加工生產(chǎn)有特殊要求的精密產(chǎn)品加工能。

電廠:

反滲透設(shè)備*擁有給國家以及行業(yè)鍋爐供水標(biāo)準(zhǔn)的能力。

精細(xì)化工行業(yè)用水：

化工材料的生產(chǎn)和加工過程所用的溶劑及清洗過程；電子半導(dǎo)體、集成電路板上用到的化工材料；石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純；高純墨水、傳真打印機(jī)中的噴墨、納米墨水。

電鍍涂裝行業(yè)用水：反滲透設(shè)備污水處理設(shè)備

電鍍涂裝行業(yè)中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導(dǎo)率在15uS/cm-5uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時(shí)也需用電導(dǎo)率在10uS/cm以下純水來清洗，此外超濾和反滲透還可以用來回收漂洗液中的貴重金屬離子，滲透過來的水再返回作鍍件清洗之用。